
盛美核心清洗專利獲多國授權(quán)
發(fā)布時(shí)間:2013-12-17 來源:盛美 責(zé)任編輯:xueqi
【導(dǎo)讀】今日,盛美的核心清洗專利之一獲得了包括美國、日本、新加坡和中國的授權(quán),其他核心清洗專利也在審批中。盛美半導(dǎo)體設(shè)備公司的創(chuàng)始人、首席執(zhí)行官王暉博士表示:本裝置的一大特色就是其具有有效并可精確控制的清洗溶液循環(huán),將交叉污染控制到最小。
2013年12月17日,盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司的核心清洗專利之一獲得了包括美國、日本、新加坡和中國的授權(quán),其他核心清洗專利也在審批中。盛美擁有完整的自主知識產(chǎn)權(quán),已經(jīng)獲得60多個(gè)國際專利,還有100多個(gè)專利正在申請中。
此次獲得授權(quán)的專利是一種用于清洗并調(diào)整半導(dǎo)體基材,諸如晶片的表面的裝置,包括可旋轉(zhuǎn)的夾盤、腔體、用于收集清洗溶液并具有一或多個(gè)排水出口的可旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)盤、用于收集多種清洗溶液的多個(gè)接收器、用于驅(qū)動夾盤的第一電機(jī)、用于驅(qū)動轉(zhuǎn)盤第二電機(jī)。轉(zhuǎn)盤內(nèi)的排水出口可置于指定接收器的正上方。由轉(zhuǎn)盤所收集的清洗溶液可導(dǎo)入指定的接收器中。

圖1: 專利配圖
“本裝置的一大特色就是其具有有效并可精確控制的清洗溶液循環(huán),將交叉污染控制到最小。”盛美半導(dǎo)體設(shè)備公司的創(chuàng)始人、首席執(zhí)行官王暉博士說,“通過遮擋板位置的上升和下降來控制藥液的回收,也可以通過藥液回收碟的旋轉(zhuǎn)使排放口對準(zhǔn)不同的藥液接受口,實(shí)現(xiàn)多種藥液的回收分離。本系統(tǒng)最多可以完成五種化學(xué)藥液的回收與排放,充分滿足客戶復(fù)雜工藝對多種清洗藥液需求的要求。”
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